Vishay verdoppelt Chipkapazitäten in Itzehoe

Leistungshalbleiter aus Deutschland Vishay verdoppelt Chipkapazitäten in Itzehoe

02.11.2026 Von Susanne Braun 2 min Lesedauer

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Vishay erweitert seine Leistungshalbleiterfertigung in Itzehoe um eine neue 300-mm-Wafer-Fab. Bund und Land fördern das Vorhaben mit 215 Millionen Euro. Die neuen Kapazitäten sollen die europäische Versorgung mit Silizium-MOSFETs stärken.

Ein Blick in die Halbleiterfertigung von Vishay Siliconix in Itzehoe: Der Hersteller erweitert seine Produktionskapazitäten und investiert in eine neue Fertigung für 300-mm-Wafer. Bund und Land unterstützen das Vorhaben mit insgesamt 215 Millionen Euro.(Bild: Vishay Siliconix Itzehoe) — Ein Blick in die Halbleiterfertigung von Vishay Siliconix in Itzehoe: Der Hersteller erweitert seine Produktionskapazitäten und investiert in eine neue Fertigung für 300-mm-Wafer. Bund und Land unterstützen das Vorhaben mit insgesamt 215 Millionen Euro.
(Bild: Vishay Siliconix Itzehoe)

Der US-amerikanische Halbleiterhersteller Vishay Intertechnology erweitert seine Fertigung am Standort Itzehoe in Schleswig-Holstein. Für das Vorhaben erhält die Tochtergesellschaft Vishay Siliconix Itzehoe rund 215 Millionen Euro Fördermittel. Davon übernimmt der Bund 172 Millionen Euro, weitere 43 Millionen Euro steuert das Land Schleswig-Holstein bei. Der Förderbescheid wurde am 30. Oktober 2026 übergeben, wie das Bundesministerium für Wirtschaft und Energie mitteilte.

Nach den Rückschlägen bei mehreren milliardenschweren Halbleiterprojekten in Deutschland ist der Ausbau in Itzehoe eine erfreuliche Nachricht. Das geplante Gemeinschaftswerk von Wolfspeed und ZF im Saarland wurde aufgegeben, Intel legte seine Pläne für eine Chipfabrik in Magdeburg auf Eis.

Vishay wiederum macht Nägel mit Köpfen und will die Produktionskapazitäten am Standort mehr als verdoppeln sowie eine neue Generation von Silizium-Leistungs-MOSFETs fertigen. Das Projekt wird auf Grundlage des European Chips Act gefördert.

Erweiterung der Fertigung auf 300‑mm-Wafer

Technisch steht die Erweiterung der Fertigung von bislang 200-mm- auf 300-mm-Siliziumwafer im Mittelpunkt. Die größere Waferfläche ermöglicht es, bei vergleichbarer Chipgröße mehr Bauelemente pro Fertigungsdurchlauf herzustellen. Wie stark sich dadurch die tatsächliche Ausbringung erhöht, hängt unter anderem von Chipgröße, Prozessführung und Fertigungsausbeute ab.

Für die neue Produktion entsteht in Itzehoe eine zusätzliche Fertigungsanlage mit rund 4.000 Quadratmetern Reinraumfläche. Nach Angaben des Unternehmens soll die Fertigung 2027 anlaufen. Im Zuge des Ausbaus sollen außerdem rund 250 neue Arbeitsplätze entstehen, wie der NDR berichtet. Die künftig gefertigten Silizium-MOSFETs sind unter anderem für Anwendungen in der Elektromobilität, der Industrieelektronik und der Stromversorgung vorgesehen.

Mehr Fertigungskapazität für Europas Halbleiterindustrie

Mit dem Ausbau verfolgt Vishay auch das Ziel, die Wettbewerbsfähigkeit der europäischen Fertigung zu verbessern. Die größeren Wafer sollen Skaleneffekte ermöglichen und die Stückkosten senken. Für die europäische Elektronikindustrie ist das Vorhaben vor allem mit Blick auf die regionale Verfügbarkeit von Leistungshalbleitern relevant. MOSFETs werden in zahlreichen Anwendungen zur Steuerung und Wandlung elektrischer Energie eingesetzt. Zusätzliche Produktionskapazitäten in Deutschland könnten damit langfristig die Beschaffungsmöglichkeiten europäischer Hersteller erweitern. Bund und Land sehen in dem Projekt zugleich einen Beitrag zur Verringerung außereuropäischer Lieferkettenabhängigkeiten. (sb)

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